Oberflächenanalyse mit Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS) – Präzise Chemie bis in den Nanometerbereich Hochauflösende, zerstörungsfreie Oberflächen- und Tiefenanalysen für metallische, halbleitende und oxidische Materialien – ideal für Qualitätssicherung, Materialentwicklung und Fehleranalyse. Das IFW Dresden bietet mit der röntgenangeregten Photoelektronenspektroskopie (XPS) eine oberflächenempfindliche, chemische Analyse mit einer Eindringtiefe bis zu 10 nm. Die Methode erlaubt eine präzise Bestimmung der Elementzusammensetzung und chemischen Bindungszustände, inklusive Tiefenprofilen bis 500 nm durch wiederholtes Sputtern. Ergänzt wird das Angebot durch die zerstörungsfreie Analyse von Schichtstrukturen mittels winkelabhängiger XPS und die Valenzzustandsanalyse. Unter Ultrahochvakuumbedingungen können zudem metallische oder organische Dünnschichten direkt vor Ort präpariert werden. Ihre Vorteile Höchste Oberflächenempfindlichkeit bis 10 nm Detaillierte chemische Bindungsanalyse Tiefenprofile bis 500 nm Zerstörungsfreie Schichtanalyse durch winkelabhängige XPS Dünnschichtpräparation im UHV direkt vor der Analyse Geeignet für komplexe Materialsysteme (Metalle, Halbleiter, Oxide) Methoden & Equipment XPS PHI 5600-CI mit 150 mm hemisphärischem Analysator Mehrkanal-Detektor (16 Kanäle) Monochromatische Al Kα-Quelle, umschaltbar auf Al-/Mg-Anoden Valenzzustandsanalyse mit Helium-Gasentladungslampe Proben bis 20 mm Ø, 10 mm Dicke; Pellets, Dünnfilme, Pulver Anwendungsfelder Qualitätskontrolle von Oberflächen und Beschichtungen Analyse natürlicher Oxidschichten und Korrosionsprodukte Charakterisierung von Dünnschichtsystemen Fehlersuche bei Schichtadhäsion und Materialversagen Entwicklung und Optimierung von Funktionsoberflächen

Individuelle Kalibriergase nach Norm – präzise, reproduzierbar und rückführbar auf SI-Einheiten für Ihre Mess- und Prüfanwendungen. Mit der Gasmischpumpe DIGAMIX 6KM 501 von Wösthoff Messtechnik fertigt das IFW Dresden Kalibriergase nach DIN EN ISO 51898 und ISO 6145-2 im absoluten volumetrischen Verfahren. Die Mischung wird ausschließlich über Hubvolumen und Hubzahlen bestimmt – unabhängig von den zu mischenden Gasen – und in speziell konstruierten Mischgefäßen homogenisiert. Dadurch sind die hergestellten Gemische direkt auf SI-Einheiten rückführbar. Wir produzieren 2- oder 4-Komponenten-Gasgemische in variablen Mischungsverhältnissen mit Gehalten bis in den ppm-Bereich, ideal für hochpräzise Kalibrier- und Prüfanwendungen. Ihre Vorteile Normgerechte Herstellung nach DIN EN ISO 51898 / ISO 6145-2 Hohe Präzision durch absolutes volumetrisches Verfahren Flexibilität für 2- und 4-Komponenten-Mischungen Gehalte bis in den ppm-Bereich Dokumentierter Mischprozess mit Protokollierung via Diagnose-Interface Methoden & Equipment DIGAMIX 6KM 501 Gasmischpumpe Nennfördermenge: ca. 65 l/h 2-Komponenten-Gemische: 0–100 % in 1 %-Schritten 4-Komponenten-Gemische: differenzierte Einstellbereiche (bis 10 % in 1 %-Schritten, bis 100 % in 10 %-Schritten) Protokollierung: Hubzahl, Hubzahluntersetzung, Sollwertabschätzung gemäß DIN 51898-1 Anwendungsfelder Kalibrierung von Gassensoren und Messgeräten Qualitätssicherung in der Prozess- und Umweltmesstechnik Prüfgase für Forschung und Entwicklung Simulation spezifischer Gasatmosphären für Materialtests

Präzise Analyse des Ausgasverhaltens Ihrer Materialien unter Hochvakuum- und Temperatureinfluss – für saubere Prozesse und zuverlässige Bauteile in anspruchsvollen Anwendungen. Das IFW Dresden bietet die Untersuchung des Ausgasverhaltens von Materialien in einer 10-Liter-UHV-Kammer mit Massenspektrometeranbindung. Ab einem Druck von 1 × 10⁻⁵ mbar können Gasmoleküle detektiert und durch Vergleich mit dem bekannten Kammergrundspektrum eindeutig dem Probenmaterial zugeordnet werden. Durch den beheizbaren Probenhalter lässt sich das Ausgasverhalten auch bei definierten Temperaturen bis 450 °C analysieren – ideal für die Materialqualifizierung in der Vakuumtechnik, Halbleiterproduktion, Raumfahrt und Präzisionsfertigung. Ihre Vorteile Detaillierte Restgasanalyse bis Massezahl 200 Hochvakuum-Bedingungen bis 8 × 10⁻⁸ mbar Temperaturgesteuerte Messungen für praxisnahe Simulation Schnelle Probenbestückung über 100 mm Schnellverschlusstür Verlässliche Differenzanalyse durch bekanntes Kammergrundspektrum Methoden & Equipment UHV-Kammervolumen: 10 l Enddruck: ca. 8 × 10⁻⁸ mbar (ohne Schleusenkammer) Massenspektrometer: Analyse bis Massezahl 200 Beheizbarer Probenhalter (55 × 55 mm) Temperaturregelung: stufenlos bis 450 °C Anwendungsfelder Qualifizierung von Materialien für Vakuum- und Reinraumanwendungen Auswahl geeigneter Werkstoffe für Hochvakuumprozesse Analyse von Verunreinigungen und Kontaminationsquellen Optimierung von Bauteilen für Halbleiter-, Optik-, und Raumfahrttechnik